1樓：江西國材科技****
金屬靶材是一種用於物理氣相沉積（physical vapor deposition，pvd）技術的重要材料。它們通常以固體的形式存在，用於濺射鍍膜過程，將金屬原子或離子沉積在基底上，形成金屬薄膜。金屬靶材具有以下特點和應用：
1. 材料種類廣泛：金屬靶材可以涵蓋多種金屬元素，如銅、鋁、鐵、鈦、鉻、鎳、鋅等。不同的金屬靶材具有不同的物理、化學和電學性質，可用念枯於滿足各種應用需求。
2. 高純度：金屬靶材的高純度對於薄膜的質量和效能至關重要。高純度的金屬靶絕高伍材能夠減少雜質對薄膜的影響，確保薄膜具有較好的電學、光學和機械效能。
3. 尺寸和形狀：金屬靶材通常具有圓盤或矩形形狀，具有特定的直徑、厚度和尺寸。這些尺寸和形狀可以根據具體的濺射裝置和應用需求進行定製，以適應不同的鍍膜過程。
4. 耐熱性：金屬靶材需要具備較高的耐熱效能，能夠承受高能量的離子轟擊和濺射過程中的高溫。耐熱性好的金屬靶材可以保持穩定的濺射效果，延長靶材的使用壽命。
5. 應用廣泛：金屬靶材在各種領域中得到廣泛應用。
例如，金屬薄膜可以用於光學塗層、導電層、並或保護層、電子器件、太陽能電池、感測器等。不同的金屬靶材具有不同的特性，適用於不同的應用場景。
2樓：
簡單說的話，例如：蒸發磁控濺射鍍膜是加熱蒸發鍍膜。鋁膜等。嫌芹更換不同的靶材（如鋁、銅、不鏽鋼、鈦、鎳靶等），即可得蠢者衝到不同的膜系（帶殲如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。
金屬靶材的介紹
3樓：龜龜大人
金屬靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料。有金屬類、合金類、氧化物類等等。
金屬靶材的應用
4樓：木兮
鎢-鈦（w-ti）膜以及以鎢-鈦（w-ti）為基的合金膜是高溫合金膜，具有一系列不可替代的優良效能。鎢具有高熔點、高強度和低的熱膨脹係數等效能，w/ ti 合金具有低的電阻係數、良好的熱穩定效能和抗氧化效能。如各種器件都需要起到導電作用的金屬佈線，例如al 、cu 和ag 等已經被廣泛的應用和研究。
但是佈線金屬本身易 氧化、易與周圍的環境發生反應，與介質層的粘結性差，易擴散進入si 與sio2 等器件的襯底材料中，並且在較低的溫度下會形成金屬與si 的化合物， 充當了雜質的角色，使器件的效能大幅度下降。而w-ti 合金因具有穩定的熱機械效能、低的電子遷移率、高的抗腐蝕效能和化學穩定性使其很容易作為佈線擴散阻擋層，特別是適合在高電流和高溫的環境下使用。
金屬靶材的w-ti靶材
5樓：詮釋
尺寸為：
矩形靶材：l800mm×w200mm×h 客戶自選厚度。（為國際上同類產品最大尺寸） 圓形靶材：
460mm×h 客戶自選厚度（為國際同類產品最大尺寸） 密度 ≥ 純度 ≥ 以上三個指標都為國內產品最高水平，國際先進水平。
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