除了光刻半導體工藝中還有哪些圖形化技術

2022-08-20 09:36:36 字數 1257 閱讀 2256

1樓:匿名使用者

1. 用電子束(e-beam lithography),好處是精度極高,目前實驗室級別的e-beam最小可以寫到1奈米,不需要mask。但是因為精度高,所以寫**的時候速度會很慢。。

2. micro-printing(類似於刻字印刷那種樣子~),不是太瞭解,實驗室不怎麼用這個,精度貌似不是很好

3. 鐳射(laser lithography),好處是不需要mask,直接往resist上寫,因為精度不如e-beam好,所以pattern都比較大,因此速度快。

我當你說的光刻半導體工藝是傳統用紫外燈做的photo-lithography了哈~

4. 傳統光刻(photo-lithography),這個其實速度也是很快的,實際的**時間只有幾秒甚至更少。一般對精度要求不高的**我們都用這個寫。

唯一缺點是每一個新的設計都要重新做一個mask。

2樓:怪刀亂魔

主流的還是你說的光刻photolithography,屬於光投影,需要用掩膜mask。正在研究中的還沒有量產化的除了一樓說的那個種,還有奈米壓印(不屬於光投影),需要製作模具(stamp,template)。微接觸印刷(micro-contact printing)屬於奈米壓印,成像原理是基板表面形成自組裝膜(sam),但是相關的問題還比較多。

光刻和刻蝕有什麼區別?

3樓:

這兩個詞是半導體工藝中的重要步驟,需要配合剖面圖講解,最好自己找本半導體工藝的書看。

「光刻」是指在塗滿光刻膠的晶圓(或者叫矽片)上蓋上事先做好的光刻板,然後用紫外線隔著光刻板對晶圓進行一定時間的照射。原理就是利用紫外線使部分光刻膠變質,易於腐蝕。

「刻蝕」是光刻後,用腐蝕液將變質的那部分光刻膠腐蝕掉(正膠),晶圓表面就顯出半導體器件及其連線的圖形。然後用另一種腐蝕液對晶圓腐蝕,形成半導體器件及其電路。

建有流水線的商家有,海力士,華潤等等。有興趣可以網上的半導體技術交流論壇看看。

什麼是光刻技術?

4樓:啊呀王

光刻技術是積體電路製造中利用光學-化學反應原理和化學、物理刻蝕方法,將電路圖形傳遞到單晶表面或介質層上,形成有效圖形視窗或功能圖形的工藝技術。隨著半導體技術的發展,光刻技術傳遞圖形的尺寸限度縮小了2~3個數量級(從毫米級到亞微米級),已從常規光學技術發展到應用電子束、x射線、微離子束、鐳射等新技術;使用波長已從4000埃擴充套件到0.1埃數量級範圍。

光刻技術成為一種精密的微細加工技術。

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