pvd是什麼材質什麼是pvd電鍍

2021-03-06 02:33:36 字數 4892 閱讀 5647

1樓:匿名使用者

聚氯乙烯

聚氯乙烯樹脂為白色或淺黃色粉末,單獨不能使用,必須經過改性。pvc為無定形結構的白色粉末,支化度較小,對光和熱的穩定性差。根據不同的用途可以加入不同的新增劑,聚氯乙烯塑料可呈現不同的物理效能和力學效能。

在聚氯乙烯樹脂中加入適量的增塑劑,可製成多種硬質、軟質和透明製品。

2樓:情感分析

pvd的材料是包含偏二氯乙烯作為主要成分的共聚

物。pvd是具有高阻隔效能,高韌性和良好的低溫熱封,熱收縮性和化學穩定性的理想包裝材料。它在包裝行業中是獨一無二的,尤其是它對水分,氧氣,水分,酸和鹼的抵抗力。

由於其特性(如浸入性和對各種化學溶劑的抵抗力),它已被廣泛用於食品,藥品和軍用產品的包裝達50年之久。

聚偏二氯乙烯是軟化溫度為160-200℃的熱塑性聚合物,並且具有首尾相連的線性聚合物鏈結構。分子結構對稱且結晶度高。

對於pvd,由於其強大的分子間內聚力和高結晶度,pvd分子中的氯原子是疏水性的,不會形成氫鍵。氧分子和水分子難以在pvd分子中移動,因此具有出色的電阻。氧氣和溼氣屏障及其氧氣屏障特性不受周圍環境溼度的影響。

擴充套件資料

利用pvd的阻氣性,可以延緩食品氧化變質的發生,大大延長產品的保質期,同時避免內容物香氣的流失,防止外界有害物質的侵入氣味;產品的防潮性可以防止產品失水。乾燥和味道差的現象不會由於產品的吸水而損壞包裝原型,並防止定量產品的自然損失(重量損失)。

阻氣性不會隨溼度的變化而變化,即使處於高溼環境下也不會導致產品變質;由於其低滲透性,它可以防止風味損失,並且不吸收殘留的氣味和異常味道,並且可以確保氣味的完整性。當包裝低脂或高蛋白食品時,這一點尤其重要。

優異的耐候性,即使長時間暴露在戶外,直接暴露在陽光下,也不會褪色和老化。它安全且環保,符合食品衛生要求,並獲得fda(美國食品藥品監督管理局)認證,可保護食品包裝安全。

3樓:匿名使用者

pvd是以偏二氯乙烯為主要成分的共聚物。且pvd是一種阻隔性高、韌性強以及低溫熱封、熱收縮性和化學穩定性良好的理想包裝材料,在包裝行業獨樹一幟,特別是其具有阻溼、阻氧、防潮、耐酸鹼、耐油浸和耐多種化學溶劑等效能,50年來廣泛用於食品、藥品、軍品的包裝。

1.詳細介紹:pvd,學名「聚偏二氯乙烯」,是一種軟化溫度在160-200℃的熱塑性聚合物,具有頭尾相連的線性聚合鏈結構。

分子結構對稱,結晶度高。對於pvd,由於其分子間凝集力強,結晶度高,pvd分子中的氯原子有疏水性,不會形成氫鍵,氧分子和水分子很難在pvd分子中移動,從而使其具有優良的阻氧性和阻溼性,且其阻氧性不受周圍環境溼度的影響。也就是說,在任何溫度或溼度條件下,兼具卓越的阻隔水汽、氧氣、氣味和香味的能力,是目前公認的在阻隔性方面綜合效能最好的塑料包裝材料。

利用pvd的阻氣性,能夠延緩食品氧化變質現象的發生,大大延長產品貨架期,同時能夠避免內裝物的香味散失和防止外部不良氣味的侵入;利用其阻溼性,能夠防止產品發生失水變幹、口感變差的現象,不會因產品吸水而損傷包裝原型,防止定量製品發生自然損耗(失重)。阻氣效能不隨溼度的變化而變化,即使高溼環境也不會引起產品變質;利用其低滲透性,可防止香味損失,而且不吸收殘餘氣味和不正常味道,可以保證氣味的完整性(在包裝低脂肪或高蛋白食品時這一點尤為重要)。耐候性優異,即使長期暴露在室外,直接受陽光照射,也不會發生包裝物褪色及老化現象。

安全環保,符合食品衛生要求,通過fda(美國食品藥品管理局)認證,為食品包裝安全保駕護航。

4樓:匿名使用者

四氟乙烯—全氟烷氧基乙烯基醚共聚物

5樓:匿名使用者

有pvc,你應該詳細描述一下是關於哪方面的。

什麼是pvd電鍍

6樓:

vd簡介

pvd是英文physical vapor deposition(物理氣相沉積)的縮寫,是指在真空條件下,採用低電壓、大電流的電弧放電技術,利用氣體放電使靶材蒸發並使被蒸發物質與氣體都發生電離,利用電場的加速作用,使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。

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pvd技術的發展

pvd技術出現於二十世紀七十年代末,製備的薄膜具有高硬度、低摩擦係數、很好的耐磨性和化學穩定性等優點。最初在高速鋼刀具領域的成功應用引起了世界各國製造業的高度重視,人們在開發高效能、高可靠性塗層裝置的同時,也在硬質合金、陶瓷類刀具中進行了更加深入的塗層應用研究。與 cvd工藝相比,pvd工藝處理溫度低,在600℃以下時對刀具材料的抗彎強度無影響;薄膜內部應力狀態為壓應力,更適於對硬質合金精密複雜刀具的塗層; pvd工藝對環境無不利影響,符合現代綠色製造的發展方向。

目前pvd塗層技術已普遍應用於硬質合金立銑刀、鑽頭、階梯鑽、油孔鑽、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、異形刀具、焊接刀具等的塗層處理。

pvd技術不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結合強度,塗層成分也由第一代的tin發展為tic、ti**、zrn、crn、mos2、tialn、tial**、tin-aln、**x、dlc和ta-c等多元複合塗層。

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塗層的pvd技術

增強型磁控陰極弧:陰極弧技術是在真空條件下,通過低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態,從而完成薄膜材料的沉積。增強型磁控陰極弧利用電磁場的共同作用,將靶材表面的電弧加以有效地控制,使材料的離化率更高,薄膜效能更加優異。

過濾陰極弧:過濾陰極電弧(fca )配有高效的電磁過濾系統,可將離子源產生的等離子體中的巨集觀粒子、離子團過濾乾淨,經過磁過濾後沉積粒子的離化率為100%,並且可以過濾掉大顆粒, 因此製備的薄膜非常緻密和平整光滑,具有抗腐蝕效能好,與機體的結合力很強。

磁控濺射:在真空環境下,通過電壓和磁場的共同作用,以被離化的惰性氣體離子對靶材進行轟擊,致使靶材以離子、原子或分子的形式被彈出並沉積在基件上形成薄膜。根據使用的電離電源的不同,導體和非導體材料均可作為靶材被濺射。

離子束dlc:碳氫氣體在離子源中被離化成等離子體,在電磁場的共同作用下,離子源釋放出碳離子。離子束能量通過調整加在等離子體上的電壓來控制。

碳氫離子束被引到基片上,沉積速度與離子電流密度成正比。星弧塗層的離子束源採用高電壓,因而離子能量更大,使得薄膜與基片結合力很好;離子電流更大,使得dlc膜的沉積速度更快。離子束技術的主要優點在於可沉積超薄及多層結構,工藝控制精度可達幾個埃,並可將工藝過程中的顆料汙染所帶來的缺陷降至最小。

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補充物理氣向沉積技術 * pvd 介紹 物理氣相沉積具有金屬汽化的特點,

與不同的氣體發應形成一種薄膜塗層。今天所使用的大多數 pvd 方法是電弧和濺射沉積塗層。這兩種過程需要在高度真空條件下進行。

ionbond 陰極電弧 pvd 塗層技術在 20 世紀 70 年代後期由前蘇聯發明,如今,絕大多數的刀模具塗層使用電弧沉積技術。

工藝溫度

典型的 pvd 塗層加工溫度在 250 ℃— 450 ℃之間,但在有些情況下依據應用領域和塗層的質量, pvd 塗層溫度可低於 70 ℃或高於 600 ℃進行塗層。

塗層適用的典型零件

pvd 適合對絕大多數刀具模具和部件進行沉積塗層,應用領域包括刀具和成型模具,耐磨部件,醫療裝置和裝飾產品。

材料包括鋼質,硬質合金和經電鍍的塑料。

典型塗層型別

塗層型別有 tin, altin,tialn,crn,cr**,ti** 和 zrn, 複合塗層包括 tialyn 或 w — c : h/dlc

塗層厚度一般 2~5um ,但在有些情況下,塗層薄至 0.5um , 厚至 15um裝載容量。

塗層種類和厚度決定工藝時間,一般工藝時間為 3~6 小時。

加工過程優點

適合多種材質,塗層多樣化

減少工藝時間,提高生產率

較低的塗層溫度,零件尺寸變形小

對工藝環境無汙染

7樓:盜王之盜

pvd電鍍是指在真空條件下,採用低電壓、大電流的電弧放電技術,利用氣體放電使靶材蒸發並使被蒸發物質與氣體都發生電離,利用電場的加速作用,使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。

pvd技術出現於二十世紀七十年代末,製備的薄膜具有高硬度、低摩擦係數、很好的耐磨性和化學穩定性等優點。最初在高速鋼刀具領域的成功應用引起了世界各國製造業的高度重視,人們在開發高效能、高可靠性塗層裝置的同時,也在硬質合金、陶瓷類刀具中進行了更加深入的塗層應用研究。與 cvd工藝相比,pvd工藝處理溫度低,在600℃以下時對刀具材料的抗彎強度無影響;薄膜內部應力狀態為壓應力,更適於對硬質合金精密複雜刀具的塗層; pvd工藝對環境無不利影響,符合現代綠色製造的發展方向。

目前pvd塗層技術已普遍應用於硬質合金立銑刀、鑽頭、階梯鑽、油孔鑽、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、異形刀具、焊接刀具等的塗層處理。

pvd技術不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結合強度,塗層成分也由第一代的tin發展為tic、ti**、zrn、crn、mos2、tialn、tial**、tin-aln、**x、dlc和ta-c等多元複合塗層。

增強型磁控陰極弧:陰極弧技術是在真空條件下,通過低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態,從而完成薄膜材料的沉積。增強型磁控陰極弧利用電磁場的共同作用,將靶材表面的電弧加以有效地控制,使材料的離化率更高,薄膜效能更加優異。

過濾陰極弧:過濾陰極電弧(fca )配有高效的電磁過濾系統,可將離子源產生的等離子體中的巨集觀粒子、離子團過濾乾淨,經過磁過濾後沉積粒子的離化率為100%,並且可以過濾掉大顆粒, 因此製備的薄膜非常緻密和平整光滑,具有抗腐蝕效能好,與機體的結合力很強。

磁控濺射:在真空環境下,通過電壓和磁場的共同作用,以被離化的惰性氣體離子對靶材進行轟擊,致使靶材以離子、原子或分子的形式被彈出並沉積在基件上形成薄膜。根據使用的電離電源的不同,導體和非導體材料均可作為靶材被濺射。

離子束dlc:碳氫氣體在離子源中被離化成等離子體,在電磁場的共同作用下,離子源釋放出碳離子。離子束能量通過調整加在等離子體上的電壓來控制。

碳氫離子束被引到基片上,沉積速度與離子電流密度成正比。星弧塗層的離子束源採用高電壓,因而離子能量更大,使得薄膜與基片結合力很好;離子電流更大,使得dlc膜的沉積速度更快。離子束技術的主要優點在於可沉積超薄及多層結構,工藝控制精度可達幾個埃,並可將工藝過程中的顆料汙染所帶來的缺陷降至最小。

PVD鍍和DLC有什麼區別

pvd鍍和dlc區別為 特性bai不同 du方法不同 用途不zhi 同。一 特性不dao同 1 pvd鍍 pvd鍍具有耐專磨 耐腐蝕 裝飾 屬導電 絕緣 光導 壓電 磁性 潤滑 超導等特性。2 dlc dlc具有硬度高,摩擦係數低,耐磨,耐腐蝕,抗粘結性好且環保等特性。二 方法不同 1 pvd鍍 p...

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